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四甲基二矽氧烷的簡介

更新時間:2023-11-14      點擊次數:1438

四甲基二矽氧烷,最近被證明在將半縮減為(wei) 相應的方麵非常有用。這已應用於(yu) 成功合成具有重要藥學意義(yi) 的格列淨家族糖尿病 2 特異性葡萄糖轉運 2 (SGLT2) 抑製劑藥物,例如卡格列淨 (Invokana) 和達格列淨 (Farxiga) 等。6TMDS也被證明可以非常有效地將硝基芳基還原為(wei) 苯胺7在生產(chan) 齊拉西酮的關(guan) 鍵中間體(ti) 時,在將酮還原為(wei) 亞(ya) 甲基方麵,是對三乙基矽烷的改進。


其他屬性水解敏感與(yu) 水性堿發生反應。


應用

用於(yu) 醛類和環氧化物的還原鹵化反應。
2.用於(yu) 將二茂鐵矽烷、聚烯烴嵌段共聚物連接成穩定的圓柱形。
3.用於(yu) 在其他可還原基團存在下將酰胺高產(chan) 率還原為(wei) 胺。
4.將苯甲醚還原為(wei) 芳烴。
5.氫化矽烷化末端炔烴形成能夠與(yu) 芳基和乙烯基鹵化物交叉偶聯的烯基矽烷。
6.用於(yu) 在合成齊拉西酮時將苯乙酮衍生物還原為(wei) 亞(ya) 甲基。

 

烯基矽烷交聯劑:

交叉偶聯反應是形成碳-碳鍵的一種非常有用的方法。它涉及兩(liang) 種試劑,一種通常是合適的有機金屬試劑(親(qin) 核試劑),另一種是合適的有機底物,通常是不飽和鹵化物、甲苯磺酸鹽或類似物(親(qin) 電試劑)。

 

ALD材料:

原子層沉積 ALD) 是一種化學自限性沉積技術,它基於(yu) 連續使用氣態化學過程。薄膜(每個(ge) 周期細至 -0.1 Å)是通過根據需要多次重複沉積序列以達到一定厚度而產(chan) 生的。薄膜的主要特點是產(chan) 生的保形性和可控的沉積方式。前驅體(ti) 的選擇是原子層沉積工藝的關(guan) 鍵,即找到具有足夠反應性以產(chan) 生所需薄膜的分子,同時又足夠穩定以處理並安全地輸送到反應室。

 

矽氧烷基矽烷還原劑:

有機矽烷是類碳氫化合物,具有作為(wei) 離子和自由基還原劑的能力。與(yu) 許多其他還原劑相比,這些試劑及其反應副產(chan) 物更安全,更易於(yu) 處理和處置。與(yu) 鋁基、硼基和其他金屬基氫化物相比,矽的金屬性質及其相對於(yu) 氫的低電負性導致 Si-H 鍵極化,產(chan) 生氫化氫和更溫和的還原劑。矽基還原劑手冊(ce) 的表1總結了一些關(guan) 鍵的矽烷還原。

 

1,1,3,3-四甲基二矽氧烷;1,1-二氫-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷;TMDO;TMDS頜骨:

      1.粘度,20 °C: 0.56 cSt

      2.ΔH梳: 4,383 千焦/摩爾

      3.ΔH醫 管 局。: 30.3 kJ/摩爾

      4.蒸氣壓,27 °C: 194.8 mm

      5.將芳香醛還原為(wei) 鹵化苄

      6.用於(yu) 醛類和環氧化物的還原鹵化反應

      7.用於(yu) 將二茂鐵矽烷、聚烯烴嵌段共聚物連接成穩定的圓柱形

      8.用於(yu) 氫化物封端有機矽聚合的封端機

      9.有機還原劑

      10.用於(yu) 在其他可還原基團存在下將酰胺高產(chan) 率還原為(wei) 胺

      11.將苯甲醚還原為(wei) 芳烴

      12.氫化矽烷化末端炔烴,形成能夠與(yu) 芳基和乙烯基鹵化物交叉偶聯的烯基矽烷

 

 


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