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LS染料簡述

更新時間：2023-10-17 點擊次數：778

具有大斯托克斯位移的 ATTO 染料

ATTO-TEC提供兩(liang) 種新型熒光標記，斯托克斯位移高達165 nm。這些染料特別適用於(yu) 多重處理領域，因為(wei) 大的斯托克斯位移可最大限度地減少檢測通道中的信號重疊。

兩(liang) 種染料都非常親(qin) 水，並且具有高熒光量子產(chan) 率的特點。與(yu) 許多其他熒光標記物相比，與(yu) 生物分子（例如蛋白質）偶聯後，熒光效率僅(jin) 略有降低。即使具有高度標記（DOL）也是如此。
這些染料有 NHS 酯、馬來酰亞(ya) 胺、疊氮化物等變體(ti) ，並且帶有遊離羧基。此外，還提供鏈黴親(qin) 和素和鬼筆環肽的綴合物。

光學特性（在 PBS pH 7.4 中）
絕對值_	第436章	納米
ε最大	3.2×10 4	米-1厘米-1
λfl _	第545章	納米
ηfl _	65	%
τfl _	4.0	納秒
CF 260 = ε 260 /ε最大	0.32
CF 280 = ε 280 /ε最大	0.22

ATTO 430LS是一種新型熒光標記物，具有109 nm的超大斯托克斯位移。因此，發射幾乎完*與(yu) 吸收光譜分離。ATTO 430LS非常親(qin) 水，並表現出非常好的水溶性。該染料具有高熒光量子產(chan) 率。即使在高標記水平 (DOL) 下，與(yu) 生物分子綴合也隻會(hui) 略微降低這種情況。ATTO 430LS是一種陰離子染料。與(yu) 底物偶聯後，染料簡單地帶負電。熒光在 400 - 460 nm 範圍內(nei) 被特別有效地激發。

光學特性（在 PBS pH 7.4 中）
絕對值_	第495章	納米
ε最大	4.0×10 4	米-1厘米-1
λfl _	第658章	納米
ηfl _	30	%
τfl _	2.6	納秒
CF 260 = ε 260 /ε最大	0.39
CF 280 = ε 280 /ε最大	0.21

ATTO 490LS是一種新型熒光標記物，具有165 nm的超大斯托克斯位移。因此，發射幾乎完*與(yu) 吸收光譜分離。這使得該染料非常適合多色實驗，特別是與(yu) ATTO 488 或 ATTO 514 結合使用。ATTO 490LS非常親(qin) 水，表現出非常好的水溶性和高熒光量子產(chan) 率。即使具有高度標記（DOL），這種情況也僅(jin) 通過與(yu) 生物分子綴合而略有降低。ATTO 490LS

是一種陰離子染料。與(yu) 底物偶聯後，染料簡單地帶負電。熒光的有效激發發生在 460 - 530 nm 範圍內(nei) 。